Citaat | Parket bij de Hoge Raad 24 november 2017

Onder 2.20 ( Parket bij de Hoge Raad 24 november 2017

Een alinea uit Parket bij de Hoge Raad 24 november 2017, ECLI:NL:PHR:2017:1282.

“(…) Angemessener Schutz ( fair protection ) für den Patentinhaber ist gewährleistet, wenn ihm der gerechte Lohn für die Offenbarung seiner Erfindung gewährt wird. Das ist der Fall, wenn die unter Schutz gestellte Erfindung gegen jede Nachahmung geschützt wird. Dabei kann die objektive Bedeutung der Erfindung nicht auβer Betracht bleiben; dh der Umfang des Schutzbereich wird sich nach dem Ausmaβ der objektiven Bereicherung der Technik richten, soweit diese im Patentanspruch unter Schutz gestellt ist. Dagegen is die Intensität der persönlichen Anstrengung, der Fleiβ der Erfinders belanglos, da das Patent nicht den <vergossenen Schweiβ>, sondern die erbrachte Leistung belohnt.” [Onderstreping A-G]

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